日経新聞が「米インテルと国立研究機関である産業技術総合研究所（産総研）は、最先端半導体の製造装置と素材の研究開発（R&D）拠点を国内に設置する。新拠点は3〜5年後をメドに設立し、極端紫外線（EUV）露光装置を日本の研究機関として初めて導入する。産総研が運営主体となり、インテルがEUVを使った半導体の製造ノウハウなどを提供する。総投資額は数百億円規模になる見通し。企業が利用料を支払い、EUVを使って試作や試験をする。新拠点では米国の研究機関との技術協力や人材交流も検討する。
インテル・産総研が日本に開発拠点 最先端の半導体素材 - 日本経済新聞 (nikkei.com) デジタル列島進化論p210に「政府の関与でビヨンド2ナノの民主化のためにまずEUV共同利用センターのような組織を立上げる手もある。開発用に1台から始め、企業だけでなく、大学や研究機関、スタートアップ等の利用も可能とする」と記載、まさにその方向性である。エッジファウンドリをラピダスが担い、あとは総合EDAができれば、2020年から主張してきた3つのインフラが揃う。